导语
首尔,2026 年 6 月 18 日 —— 全球高端高带宽内存(HBM)龙头企业 SK 海力士今日官方宣布,已面向全球 AI 芯片、超算核心客户批量交付12 层堆叠 HBM4E工程样品,较此前市场预期的下半年送样节点大幅提前,正式开启下一代千亿参数大模型算力基础设施验证周期。依托自研先进堆叠与低功耗 DRAM 工艺,新品在带宽、单堆栈容量、能效、散热四大维度实现代际全面跃升,持续夯实 SK 海力士在 AI 存储赛道的技术领先地位。
正文
作为面向生成式 AI、超大规模训练集群、云端高并发推理场景的第七代高性能 HBM 产品,12 层 HBM4E 是 SK 海力士面向 2027 年新一代 AI 加速器打造的核心存储方案,此次提前送样标志全球 AI 算力硬件军备竞赛进入全新阶段。
一、核心性能全面升级,算力瓶颈大幅缓解
本次交付的 12 层堆叠 HBM4E 采用 1c 纳米 DRAM 核心裸片,单堆栈集成 12 颗 32Gb 存储晶粒,实现48GB 超大单堆栈容量,相较上一代 HBM4 容量提升超 30%,可完整承载 300B 以上参数大模型,减少多卡内存交换开销,大幅延长上下文窗口、提升 KV 缓存承载能力。
传输性能层面,产品引脚速率最高可达16Gbps,搭配全新优化高速接口架构,单堆栈峰值带宽突破 4TB/s,数据吞吐能力较 HBM4 提升近 38%;同时通过电路架构重构降低传输延迟,高负载算力集群下数据读写稳定性显著增强,完美适配万亿参数大模型训练、多模态 AI、自动驾驶仿真等高数据流场景。
二、能效与散热技术革新,降低数据中心运营成本
针对 AI 服务器高功耗、高热痛点,SK 海力士为 HBM4E 搭载全新低功耗电路设计,整机能效相较前代提升20% 以上,同等算力规模下可显著降低数据中心电力消耗。
堆叠工艺上,产品采用升级款MR-MUF 先进封装技术,优化多层晶粒贴合、填充与散热通路,相较 HBM4 热阻降低约 17%,有效解决多层堆叠芯片热量堆积难题,长时间满负载运行下温度控制更稳定,延长服务器整机使用寿命,降低散热配套硬件投入。
三、研发与量产节奏提速,深度绑定全球头部算力厂商
SK 海力士官方表示,依托多年 HBM 全流程自研、大规模量产积累的技术沉淀,团队仅在 Computex 2026 静态展出产品两周后,即完成工程样品交付,送样进度超出内部规划。目前样品已送达英伟达、云服务商、高端超算厂商等核心合作伙伴,全面进入功能、稳定性、整机适配联合验证阶段。
公司规划,在完成客户认证调试后,将于 2027 年按客户需求启动 12 层 HBM4E 规模化量产,同步推进 16 层更高规格 HBM4E 研发,持续扩充 AI 存储产品矩阵,匹配全球算力市场持续扩张的存储需求。
SK 海力士相关负责人表示:“大模型迭代速度持续加快,算力对内存容量、带宽、能效的需求呈指数级增长。此次 12 层 HBM4E 提前送样,是我们响应行业需求的关键落地。未来我们将持续与全球生态伙伴深度协同,以领先存储技术突破 AI 算力瓶颈,助力全球人工智能产业高效、低碳发展。”
行业解读
当前全球 HBM 市场竞争持续升温,高带宽内存已成为高端 AI GPU 的核心稀缺配套。SK 海力士 12 层 HBM4E 提前落地,进一步拉开多层堆叠存储技术迭代速度差距。业内分析指出,更高带宽、更大单栈容量、更优散热能效的 HBM4E,将直接支撑下一代 Blackwell、Rubin 系列 AI 芯片性能释放,缓解行业长期存在的 “算力强、内存弱” 瓶颈,同时有效降低超算、智算中心长期运营能耗成本,推动 AI 基础设施绿色升级。
结尾
关于 SK 海力士
SK 海力士是全球第二大存储半导体企业,同时为全球 HBM 核心供应商,长期深耕 AI、高性能计算专用存储芯片研发与量产,拥有从 DRAM 工艺、多层堆叠封装到系统适配的完整自研体系,产品广泛应用于 AI 加速器、云端智算、高性能超算、图形渲染等领域,持续为全球数字科技产业提供高性能存储解决方案。