顶尖学者Andrew B. Kahng深度解读韬(τ)定律:重构半导体演进逻辑,产业落地差距小于市场预期
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06-04
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近日,华为在2026年IEEE国际电路与系统研讨会(ISCAS 2026)上正式发布的韬(τ)定律(Tau Scaling Law),彻底搅动全球半导体产业格局,为陷入物理极限与成本困境的传统芯片演进路线提供全新解法。针对这一颠覆性技术范式,全球顶尖芯片学者、IEEE&ACM双会士、加州大学圣地亚哥分校杰出教授Andrew B. Kahng接受专项专访,从全球产业视角、技术底层逻辑、落地可行性等维度深度剖析,明确指出韬(τ)定律是对传统半导体几何缩微路线的核心挑战,其产业化需要弥合的技术与工程差距,远小于外界普遍认知。

作为半导体领域国际权威学者,Andrew B. Kahng深耕芯片设计、集成电路优化、先进制程演进研究数十年,成果深刻影响全球半导体技术迭代与产业发展,是后摩尔时代半导体技术革新的核心推动者之一。此次针对韬(τ)定律的专业解读,为全球产业界厘清新技术范式的价值、争议与落地前景提供了权威参考。

长期以来,全球半导体产业始终遵循摩尔定律指引的发展路径,以几何缩微为核心逻辑,通过不断缩小晶体管尺寸、提升光刻工艺精度,实现芯片晶体管密度与性能的迭代升级。但随着制程逼近3纳米、2纳米乃至1纳米物理极限,传统路线的弊端全面凸显:量子隧穿效应加剧、芯片漏电率攀升、研发与制造成本指数级暴涨,单纯依靠光刻工艺精进的演进模式已难以为继,全球半导体产业正式迈入后摩尔时代的转型十字路口。

针对行业困境,韬(τ)定律跳出传统技术思维桎梏,重构半导体核心迭代逻辑,提出以时间缩微替代几何缩微的全新演进范式。该定律核心是摒弃单一追求晶体管微型化的研发思路,转而以系统性降低电路时间常数(τ)、压缩信号传播时延为核心目标,通过器件、电路、架构、封装、系统的全链条协同优化,实现芯片性能提升、能耗降低与集成度升级,开辟了不依赖极致光刻工艺的半导体发展新路径。

Andrew B. Kahng在专访中直言,韬(τ)定律的核心价值,在于彻底颠覆了半导体产业数十年的单一评价体系与研发导向。“传统半导体技术的竞争焦点长期局限于光刻制程与晶体管尺寸,行业默认‘越小越强’的固有认知。但韬(τ)定律告诉业界,芯片的核心价值是系统级性能与用户终端体验,而非单一工艺参数的极致突破。”他表示,这一定律从底层逻辑上挑战了传统路线的技术惯性,将半导体迭代的竞争维度,从单一制造工艺,拓展为设计、架构、封装、系统协同的全方位综合竞争。

针对市场普遍热议的“韬(τ)定律落地难度大、技术不成熟”的争议,Andrew B. Kahng给出明确判断:外界大幅高估了新技术范式的落地差距。在他看来,韬(τ)定律并非凭空诞生的颠覆性空想,而是基于现有半导体工程技术的系统化整合与创新重构,其核心技术逻辑、工程实现路径均具备扎实的产业基础。

“产业界多年来的电路优化、逻辑折叠、封装集成等技术积累,本质上都是在缩短信号时延、优化时间常数,与韬(τ)定律的核心逻辑高度契合。”Andrew B. Kahng解释道,过往行业相关技术探索多为零散式、单点式创新,而韬(τ)定律的核心贡献,是将碎片化的技术经验提炼为系统化、可落地、可迭代的产业演进准则,为全行业技术优化提供了统一的理论框架与发展方向。相较于从零突破的全新技术体系,韬(τ)定律需要补齐的工程短板、生态差距十分有限。

谈及产业落地前景,Andrew B. Kahng认为,韬(τ)定律将有效破解后摩尔时代的产业发展困局,为全球半导体产业提供可持续的迭代通道。根据公开规划,依托韬(τ)定律的技术迭代路径,2031年高端芯片可实现等效1.4纳米制程的性能水平,这意味着在先进光刻工艺遇阻的背景下,芯片性能升级依然能保持稳定节奏,彻底打破产业迭代停滞的焦虑。

同时他强调,韬(τ)定律的崛起,并非对摩尔定律的彻底否定,而是后摩尔时代的重要补充与升级革新。摩尔定律定义了半导体产业的高速增长周期,而韬(τ)定律则为产业突破物理与成本瓶颈、实现长效发展提供全新答案,二者衔接迭代,将推动全球半导体产业进入“多维优化、多元创新”的全新发展阶段。

业内人士分析,作为首个由中国半导体企业提出、获得国际权威学者认可的半导体产业演进准则,韬(τ)定律不仅标志着国内半导体产业从技术追赶向范式引领的关键跨越,更将重塑全球半导体技术竞争格局。在这一新范式下,芯片设计能力、系统架构创新、多技术协同整合能力,将取代单一制程工艺,成为未来半导体产业竞争的核心赛道。

Andrew B. Kahng最后表示,后摩尔时代的半导体创新,需要打破固有技术思维的束缚,拥抱多元化的迭代路径。韬(τ)定律的出现,为全球产业提供了全新的解题思路,随着产业链上下游的协同探索与技术落地,其产业价值将持续释放,成为未来十年全球半导体技术创新的核心主线之一。

未来,随着韬(τ)定律相关技术持续落地、生态不断完善,半导体产业有望摆脱对极致光刻工艺的依赖,走出一条低成本、高效能、可持续的全新发展道路,为人工智能、高性能计算、终端智能设备等下游产业的持续革新筑牢核心芯片根基。

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